2023年3月1日-3月3日，第十三屆中國國際納米技術產業(yè)博覽會(以下簡稱納博會)在蘇州國際博覽中心順利舉行。本次納博會首次增擴20%展覽面積，展覽總面積達22000平方米，匯集了300多位業(yè)內知名專家，2000多家產業(yè)機構。

(資料圖片僅供參考)

納博會于2010年首度推出，迄今已成功舉辦十二屆，為納米產業(yè)提供了產品展示、市場推廣、新品發(fā)布、合作交流的重要平臺，有效推動了納米技術應用推廣與國際合作。

此次第十三屆納博會，重點聚焦MEMS制造、柔性印刷電子、納米大健康、納米壓印、半導體器件加工、分析測試、第三代半導體、纖維材料、凝膠材料、磁珠材料等技術應用方向，縱向覆蓋納米技術產業(yè)鏈條，為企業(yè)提供技術展示、產品推廣的平臺，為客戶提供一個與企業(yè)面對面洽談交流的機會。

在本次第十三屆納博會現場，除了精彩的學術講座以外，還匯聚了不少業(yè)內優(yōu)秀企業(yè)。迪合光電科技(上海)有限公司(以下簡稱“迪合光電”)也攜帶了多款優(yōu)良產品亮相本次納米技術領域盛會，充分展現企業(yè)風采。

迪合光電是LEICA光學儀器在江浙滬工業(yè)區(qū)域的徠卡顯微鏡總代理，以經營、開發(fā)、應用、服務于一體的上海自貿區(qū)企業(yè)，致力于為工業(yè)，電子制造業(yè)和科研領域用戶提供顯微光學檢測和自動影像測量、計量、分析及過程控制等解決方案。迪合光電始終秉承“誠信、服務、專業(yè)、創(chuàng)新”的經營理念，擁有高素質的專業(yè)人員為客戶提供優(yōu)質的售前、售中、售后服務，并可應客戶要求開發(fā)或共同開發(fā)其他應用光學產品，為廣大的國內生產和科研用戶提供與同步的專業(yè)服務，更好地創(chuàng)造產品價值和顧客價值。

全能型 Wafer Loader + 德國光學 Leica Microscope DM8000M

全能型 Wafer Loader + 德國光學 Leica Microscope DM8000M

該產品為超強的半導體晶圓裝載機系列，能夠將直徑為6英寸(150mm)和8英寸(200mm)的晶圓轉移到LEICA DM8000M顯微鏡上。支持半導體晶圓前圖案側、后周邊和中心區(qū)域檢測。可自動或手動設置晶圓旋轉速度和傾斜角度。

該款產品擁有高效、安全的全自動晶圓傳送，并且具備大尺寸觸控屏幕，中文/英文操作界面，操作簡單、易學易用。該系統(tǒng)可以兼容第一~第三代材料，包括不透明材質、半透明材質以及全透明材質的晶圓。該系統(tǒng)可以升級成為全自動檢測系統(tǒng)(可以選配AOI/AI智能檢測軟件)，可以針對特殊工藝晶圓、特殊標記Mark、雙平邊晶圓等進行相應的擴展或者改造，可以選配SMIF系統(tǒng)、SECS/GEM。

Leica DVM6 徠卡視頻顯微鏡

Leica DVM6 徠卡視頻顯微鏡

DVM6數碼顯微鏡是一款多樣化的解決方案，可幫助實驗者在研究樣本時獲得深入的認識，由于操作方便，實驗者可以專注于自己的工作，同時通過可重現的成像條件提高結果的可靠性。DVM6數碼顯微鏡可以輕松快捷地從宏觀轉向微觀，并且能夠調節(jié)低倍、中倍、高倍物鏡。

DVM6傾斜功能從-60°到+60°的不同視角觀察樣本，能夠觀察到難以發(fā)現的細節(jié)，只需旋轉和移動載物臺，即可到達70毫米x50毫米行程范圍內的任何一點，從不同角度探索樣本。即使在傾斜過程中，樣本也始終保持對焦，因為傾斜軸與焦點對齊。DVM6還能夠通過可重現的成像條件提高結果的可靠性。

徠卡Emspira 3數碼顯微鏡

徠卡Emspira 3數碼顯微鏡

Emspira 3在同一個系統(tǒng)中結合了執(zhí)行全面的目視檢查所需的所有功能，包括比較、測量和文檔共享。它能夠檢查不同的樣本，快速達到高要求、高通量的目標。同時，Emspira 3有助高效做出決定，讓實驗者獲益于文檔的安全存儲和輕松分享——無論以獨立模式還是與計算機相連進行檢查。Emspira 3設計堅固，同樣可以讓實驗者在生產和實驗室環(huán)境中充滿信心地專注于自身的檢查工作。

Emspira 3可以完成復雜的目視檢查任務，無需使用計算機，而且還能減少工作中的混亂。其中集成的屏幕菜單式調節(jié)方式(OSD)可提供獨立運行的直觀工具。Emspira 3還使用了條形碼，使得產品中的掃描儀能夠快速記錄和識別樣本。并且通過自動記錄所采集圖像的識別碼，始終可以從圖像追溯到樣本。

關鍵詞： 納米技術 解決方案 的可靠性